极紫外投影光刻

作品数：20被引量：75H指数：7
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Xe液体微滴靶激光等离子体光源实验被引量：2
《光学精密工程》2006年第6期939-943,共5页尼启良 
国家自然科学基金(No.60677043)
基于Xe的惰性和在13～14nm波段高的辐射强度，Xe被认为是极紫外投影光刻（EuVL）潜在的靶材，为此设计和研制了一台液体微滴喷射靶激光等离子体（LPP）极紫外光源。详细地研究了Xe液体微滴喷射靶的光谱辐射特性、在13．4nm的激光-EUV转...
关键词：Xe液体微滴喷射靶 激光等离子体光源 极紫外投影光刻 
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