极紫外投影光刻

作品数：20被引量：75H指数：7
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相关作者：金春水曹健林杨雄曹宇婷王向朝更多>>
相关机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院研究生院北京理工大学更多>>
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32nm节点极紫外光刻掩模的集成研制被引量：9
《光学学报》2013年第10期320-326,共7页杜宇禅 李海亮 史丽娜 李春 谢常青 
国家自然科学基金(61107032;61275170)
报道了国内首块用于极紫外投影光刻系统的6inch(1inch=2.54cm)标准极紫外光刻掩模。论述了32nm节点6inch标准极紫外光刻掩模的设计方案,及掩模衬底、反射层、吸收层材料的工艺特性研究,对缺陷控制及提高掩模效率的方法进行了分析。运用...
关键词：X射线光学 极紫外投影光刻 掩模 电子束光刻 32 nm节点 时域有限差分法 
极紫外投影光刻接触孔掩模的快速仿真计算被引量：9
《光学学报》2012年第7期53-57,共5页曹宇婷 王向朝 步扬 
国家自然科学基金(60938003)资助课题
采用一个极紫外投影光刻掩模衍射简化模型实现了三维接触孔掩模衍射场的快速仿真计算。基于该模型,得到了接触孔掩模衍射场分布的解析表达式,并对光刻成像时的图形位置偏移现象进行了解释和分析。简化模型中,掩模包括吸收层和多层膜两...
关键词：光栅衍射 极紫外投影光刻 薄掩模模型 严格电磁场仿真 
极紫外投影光刻掩模阴影效应分析被引量：8
《光学学报》2012年第8期42-46,共5页曹宇婷 王向朝 步扬 刘晓雷 
国家自然科学基金(60938003)资助课题
极紫外(EUV)投影光刻掩模在斜入射光照明条件下,掩模成像图形位置和成像图形特征尺寸(CD)都将随入射光方向变化,即存在掩模阴影效应。基于一个EUV掩模衍射简化模型实现了掩模阴影效应的理论分析和补偿,得到了掩模(物方)最佳焦面位置和...
关键词：光学制造 极紫外投影光刻 掩模 阴影效应 严格电磁场仿真 
极紫外投影光刻掩模衍射简化模型的研究被引量：10
《光学学报》2011年第4期42-48,共7页曹宇婷 王向朝 邱自成 彭勃 
国家自然科学基金(60938003);国家科技重大专项项目(2008ZX02501-006;2009ZX02205-001)资助课题
建立一个计算极紫外投影光刻掩模衍射场的简化模型,在该简化模型中通过对入射光场进行追迹推导衍射场分布的解析表达式。简化模型中的掩模包括多层膜结构和吸收层结构两部分。多层膜结构的衍射近似为镜面反射。吸收层结构的衍射利用薄...
关键词：衍射 极紫外投影光刻 薄掩模模型 时域有限差分算法 
大数值孔径产业化极紫外投影光刻物镜设计被引量：21
《光学学报》2011年第2期224-230,共7页刘菲 李艳秋 
国家科技重大专项;教育部长江学者特聘教授奖励计划;北京理工大学基础研究基金(20090442019);北京理工大学优秀青年教师资助计划扩展项目(2010CX04020)资助课题
极紫外光刻技术（EUVL）是半导体制造实现22 nm及以下节点的下一代光刻技术,高分辨投影物镜的设计是实现高分辨光刻的关键技术。为设计满足22 nm产业化光刻机需求的极紫外光刻投影物镜,采用6枚高次非球面反射镜,像方数值孔径达到0.3,像...
关键词：光学设计 投影物镜 高次非球面 极紫外光刻(EUVL) 
极紫外投影光刻光学系统被引量：9
《中国光学与应用光学》2010年第5期452-461,共10页王丽萍 
国家重大科技专项支持课题
极紫外光刻(EUVL)是半导体工业实现32～16nm技术节点的候选技术,而极紫外曝光光学系统是EUVL的核心部件,它主要由照明系统和微缩投影物镜组成。本文介绍了国内外现有的EUVL实验样机及其系统参数特性;总结了EUVL光学系统设计原则,分别综...
关键词：极紫外光刻 投影光学系统 照明光学系统 光学设计 
极紫外投影光刻物镜设计被引量：7
《光学学报》2009年第9期2520-2523,共4页杨雄 邢廷文 
极紫外投影光刻用14 nm波长的电磁辐射,可以在实现高分辨率的同时保持相对较大的焦深,有希望成为制造超大规模集成电路的下一代光刻技术。极紫外投影光刻工作于步进扫描方式,采用全反射、无遮拦、缩小的环形视场投影系统。无遮拦投影系...
关键词：光学设计 物镜 光刻 极紫外 
CO_2,O_2,CF_4液体微滴喷射靶激光等离子体光源光谱被引量：2
《光谱学与光谱分析》2008年第11期2465-2468,共4页尼启良 陈波 
国家自然科学基金项目(60677043;40774098)资助
基于软X射线辐射计量和极紫外投影光刻(EUVL)应用,研制了一台使用纳秒激光器的液体微滴喷射靶激光等离子体(LPP)极紫外光源。该光源由一个可连续控温的不锈钢电磁喷气阀门、YAG激光器和能同步控制喷气阀门和激光器的脉冲发生器组成。使...
关键词：液体微滴喷射靶 激光等离子体光源 极紫外投影光刻 
光学系统、成像与分析
《中国光学》2008年第3期5-5,共1页
关键词：光学系统 极紫外投影光刻 光学成像系统 反射系统 光电工程 相位板 离焦 国家重点实验室 大景深 优化方法 
极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计被引量：3
《光电工程》2007年第12期113-117,共5页王丽萍 金春水 张立超 
国家自然科学基金资助项目(69625710)
极紫外投影光刻(EUVL)两镜微缩投影物镜通常采用Schwarzschild结构和平场结构。本文分析了这两种结构在EUVL不同发展阶段的设计特点,并依据有限距反射系统像差理论,从解析解出发,设计了两套平场两镜系统,分别用于对分辨力为70nm、无遮...
关键词：极紫外投影光刻 投影物镜 平场两镜系统 光学设计 光刻技术 
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