光子晶体器件

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深紫外光刻技术在光子晶体器件中的应用
《考试周刊》2010年第22期173-173,共1页刘欢 王健 李金凤 
光刻技术越来越多地应用于制作光子器件中，使得光器件的体积大大缩小。本文作者研究了深紫外光刻工艺方法的基本原理及工艺过程，同时通过工艺参数优化，得到了较好的硅基光子晶体样品。
关键词：深紫外光刻技术 深紫外曝光 光子晶体 
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