分步重复光刻机

作品数：10被引量：39H指数：4
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相关作者：胡淞谢传钵郭京平姚汉民周崇喜更多>>
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Nikon Precision选择Arbortext~来产生准确和最新的服务信息
《中国机电工业》2011年第11期122-124,共3页
Nikon Precisioninc．是Nikon Corporation的一家全资子公司，它向全球各地的微电子行业客户提供尖端的精密光刻设备。Nikon在1980年推出了第一台立即可用的分步重复光刻机，自此以后，该公司一直都是行业中的领先者。如今，在印制出来...
关键词：NIKON 服务信息 PRECISION 微电子行业 分步重复光刻机 光刻设备 液晶显示屏 集成电路 
中国半导体设备业发展的契机被引量：2
《中国集成电路》2006年第3期23-26,共4页王勃华 
关键词：半导体设备 中国 分步重复光刻机 自动化生产线 半导体三极管 电子束曝光机 纯水处理系统 电力电子器件 平面工艺 外延设备 
分步重复投影光刻机同轴对准系统被引量：8
《光电工程》1998年第3期1-6,共6页郭京平 
国家"八五"科技攻关项目
对投影光刻机同轴对准系统进行了理论分析，阐述了系统的成象机理和工作过程，并在整机上检测了同轴对准系统的重复精度。该系统在掩模和硅片上均刻有对准光栅标记，经光栅衍射后形成干涉信号，使对准信噪比大大提高，并实现了掩模和硅...
关键词：分步重复光刻机 掩模对准系统 对准精度 光刻 
0.8～1μm分步重复投影光刻机六自由度硅片定位系统设计与计算被引量：3
《光电工程》1998年第3期7-11,共5页胡淞 苏伟军 
国家"八五"科技攻关项目
介绍用于０．８～１μｍ分步重复投影光刻机的六自由度硅片定位系统。讨论了气足、承片台系统及ＳＴＡＭＰ的设计和计算方法，并给出了设计数据与计算结果。本系统在Ｘ、Ｙ１、Ｙ２三个方向达到了±０．１μｍ（３σ）的重复定位精度、...
关键词：分步重复光刻机 定位系统 调焦 机构 调平 光刻 
高分辨力高导向精度柔性铰链调焦机构被引量：7
《光电工程》1998年第3期23-26,共4页胡淞 姚汉民 
中国科学院"八五"重大项目
介绍一种用于亚微米曝光系统的柔性铰链调焦机构，讨论了其设计与计算方法，这种机构得到了２０ｎｍ的分辨力、２００μｍ的行程和小于１弧秒的导向精度。这是一种适合纳米定位的理想机构。
关键词：分步重复光刻机 调焦机构 铰链 光刻机 
0.8～1μm分步重复投影光刻机计算机实时控制系统接口设计被引量：1
《光电工程》1998年第3期27-31,共5页张正荣 
国家"八五"科技攻关项目
较详细介绍了０．８～１μｍ分步重复投影光刻机的主计算机实时控制系统接口设计，所有接口均采用隔离措施，各种类型接口都具有方便的再扩展功能，接口软件用ＢｏｒｌａｎｄＣ＋＋语言编写，可方便调配组合使用。
关键词：分步重复光刻机 接口 实时控制系统 光刻机 
分步重复投影光刻机整机控制管理软件
《光电工程》1998年第3期32-36,共5页田宏 
计算机分系统是光刻机整机控制和管理的中枢，直接反映和影响着整机的性能和指标。介绍了计算机硬件接口控制原理，描述了分步重复投影光刻机系统软件的主要设计思想和软件的主要功能。
关键词：分步重复光刻机 控制软件 接口 光刻机 
0.8μm投影光刻物镜研制被引量：2
《光电工程》1998年第3期52-55,共4页陈旭南 王效才 邢廷文 罗明真 黄秋 
国家"八五"科技攻关项目
分绍了０．８～１μｍ分步重复投影光刻机投影光刻物镜双远心成象原理及设计研制。所研制的ｇ线１／５精缩投影光刻物镜，其数值孔径ＮＡ＝０．４５，视场１５ｍｍ×１５ｍｍ，畸变不超过±０．１μｍ。
关键词：投影物镜 紫外光刻 分步重复光刻机 光刻机 
分步重复投影光刻机精密快速定位工件台研究被引量：10
《光电工程》1996年第4期65-72,共8页谢传钵 
国家"七.五"科技攻关项目
介绍了“１．５～２微米实用型分步重复投影光刻机”用的精密快速定位工件台的设计、结构特点、精度分析、检测及使用情况。工件台由大行程Ｘ－Ｙ工件台、微动台（Δｘ，Δｙ）和调平微转台（Δｚ１，Δｚ２，Δｚ３，Δθ）组成。同时...
关键词：分步重复光刻机 工件台 精密定位 投影光刻机 
i－line光刻高均匀照明系统光能分布的计算模拟被引量：7
《光电工程》1996年第2期1-6,共6页周崇喜 林大键 
中国科学院"八.五"重大项目
叙述了ｉ－ｌｉｎｅ光刻高均匀照明系统的均匀照明原理，以及其具有特殊面形（非球面）、特殊结构（非共轴）、超光学表面（由多个非共轴光学表面组成）的光学系统的光能分布计算模拟的原理、方法。作为例子，用所编写的程序计算模拟了...
关键词：分步重复光刻机 照明光学 光能分布 计算机模拟 
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