氨基乙酸

作品数:228被引量:306H指数:8
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氨基乙酸-H_2O_2体系抛光液中铜的化学机械抛光研究被引量:5
《摩擦学学报》2008年第4期366-371,共6页张伟 路新春 刘宇宏 潘国顺 雒建斌 
国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716201);国家自然科学基金委与广东省政府自然科学联合基金资助项目(2003CB716201);国家自然学基金资助项目助项目(50775122)
在CP-4型CMP试验机上采用5μm厚的铜镀层片研究了氨基乙酸-H2O2体系抛光液中铜的化学机械抛光行为,分别采用Sartorius 1712MP8型电子天平和WYKO MHT-Ⅲ型光干涉表面形貌仪检测抛光去除率和抛光后表面粗糙度,用CHI660A型电化学工作站的...
关键词:化学机械抛光 动电位极化扫描 氨基乙酸 腐蚀坑 
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