边发射

作品数：23被引量：34H指数：3
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热处理与表面处理工艺
《电子科技文摘》2001年第5期21-21,共1页
0107620在 p-Si(100)上溅射法生长 ZnO 的结构和光学特性[刊]/姚振钰//功能材料与器件学报.—2000,6(4).—338～341(C)室温下在 p-Si(100)上采用直流反应磁控溅射法外延生长了 ZnO 薄膜。XRD 测量表明了 ZnO 是高度C轴单一取向生长的,X...
关键词：直流反应磁控溅射 功能材料 光学特性 高质量 外延生长 取向生长 表面处理工艺 带边发射 测量 化学镀镍电极 
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