直流反应磁控溅射

作品数：100被引量：334H指数：8
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掺钛对氧化钨薄膜电致变色循环稳定性影响
《建筑玻璃与工业玻璃》2022年第2期17-20,共4页代强 孟政 
本文采用脉冲直流反应磁控溅射镀膜方法在FTO透明导电玻璃上制备了结晶态WO_(3)与WO_(3):Ti薄膜;采用电化学工作站和可见-近红外分光光度计对薄膜的循环伏安特性和光学性能进行测试;然后使用XRD(X射线衍射)和SEM(扫描电镜)对比分析薄膜...
关键词：直流反应磁控溅射 循环稳定性 电致变色 氧化钨薄膜 晶体结构 电荷量 结晶态 电流衰减 
在石英纤维丝上对向靶材直流反应磁控溅射沉积氧化铝薄膜被引量：1
《沈阳大学学报（自然科学版）》2018年第6期431-435,共5页王美涵 高博文 陈昀 
国家自然科学基金青年基金资助项目(51302175);人社部留学人员科技活动择优资助项目(2015);辽宁省优秀人才支持计划资助项目(LJQ2014132)
采用对向靶材直流反应磁控溅射法,以金属铝为靶材,高纯氧为反应气体,在石英纤维丝上沉积了氧化铝薄膜,并对氧化铝薄膜的晶体结构、化学组成和表面形貌进行了研究.结果表明,室温沉积的氧化铝薄膜具有无定形结构,其组成为非化学计量比的...
关键词：直流反应磁控溅射 对向靶材 氧化铝薄膜 石英纤维丝 
膜厚对直流反应磁控溅射沉积NiO薄膜的结构与电致变色性能的影响被引量：3
《硅酸盐通报》2018年第9期2759-2765,共7页张泽华 赵青南 刘翔 李渊 曾臻 董玉红 赵杰 
国家十三五重点研发计划子课题(2016YFB0303903-04)
采用直流反应磁控溅射法在FTO玻璃基片上沉积了不同厚度的氧化镍(NiO)薄膜。用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、台阶仪、紫外可见分光光度计、电化学工作站,研究了NiO薄膜厚度对其微观结构、形貌...
关键词：膜厚 NiO薄膜 电致变色 直流反应磁控溅射 
衬底温度对直流反应磁控溅射TiN电极薄膜显微结构及导电性能的影响
《功能材料》2017年第8期203-207,共5页周方杨 徐进 杨喜锐 梁海龙 赵鹏 周大雨 
国家自然科学基金资助项目(51272034,51672032);中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(DUT15LAB23)
二氧化铪基新型铁电薄膜器件等研究提出了在低衬底温度下制备高导电性和低表面粗糙度纳米超薄TiN电极薄膜的迫切需求。利用直流反应磁控溅射方法在单晶硅基片上制备TiN薄膜,衬底温度范围从室温~350℃,以XPS、XRD、AFM以及XRR等为主要手...
关键词：TIN 电极薄膜 衬底温度 电阻率 
直流反应磁控溅射制备单一相Cu_2O薄膜及光电性能研究被引量：1
《功能材料》2017年第4期4096-4099,4104,共5页王进霞 洪瑞金 张涛 陶春先 张大伟 
国家重点研发计划资助项目(2016YFB1102300);国家自然科学基金资助项目(61378060)
室温下,采用直流反应磁控溅射法制备透明导电氧化亚铜(Cu_2O)薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)、四探针测试仪及拉曼光谱仪分别研究不同沉积时间下制备的Cu_2O薄膜的晶体结构、表面形貌、电阻率及表面增强拉曼散射特性。...
关键词：透明导电薄膜 氧化亚铜 直流反应磁控溅射 沉积时间 电阻率 拉曼光谱 
脉冲峰值电流对HIPIMS/DCMS共沉积制备AlCrTiN涂层性能的影响被引量：7
《中国表面工程》2016年第5期56-65,共10页贵宾华 周晖 郑军 张延帅 杨拉毛草 
利用HIPIMS与DCMS共沉积技术制备AlCrTiN复合硬质涂层,通过调控Al Cr靶脉冲峰值电流来制备不同峰值电流下的AlCrTiN涂层。采用XRD、SEM等分析手段表征不同峰值电流下AlCrTiN涂层的组织结构及微观形貌;通过纳米压痕、真空退火、高温摩擦...
关键词：高功率磁控溅射 直流反应磁控溅射 共沉积 组织结构 力学性能 耐磨性能 
N_2流量对HIPIMS/DCMS共沉积制备TiAlCrN涂层结构及性能的影响被引量：4
《真空科学与技术学报》2016年第7期800-806,共7页贵宾华 周晖 郑军 张延帅 杨拉毛草 
利用高功率磁控溅射与直流反应磁控溅射共沉积技术制备了不同N_2流量下的TiAlCrN复合硬质涂层。采用X射线衍射仪(XRD)、薄膜综合性能测试仪以及大气球盘摩擦磨损试验机分析测试了涂层的微观组织结构、力学性能及摩擦学性能。结果显示:随...
关键词：高功率磁控溅射/直流反应磁控溅射共沉积 N2流量 微观组织结构 力学性能 摩擦学性能 
室温下制备以{211}晶面为主的Ti_(1-x)V_xO_2薄膜及其可见光催化性能
《无机化学学报》2015年第11期2197-2204,共8页谢鹏程 黄洁 
中国科学院广州地球化学研究所有机地球化学国家重点实验室开放基金(OGL-201111)资助项目
以金属Ti和V作为靶材,采用直流反应共溅射技术在室温下制备了以{211}晶面为主的锐钛矿相Ti1-xVxO2薄膜,研究了不同V靶功率对Ti1-xVxO2薄膜的薄膜成分、晶相结构和可见光催化性能的影响。研究表明,Ti1-xVxO2薄膜的晶相结构为锐钛矿相,择...
关键词：直流反应磁控溅射 Ti1-xVxO2薄膜 室温 高能晶面 可见光催化行为 
退火升温速率对氧化铝涂层性能的影响研究
《热加工工艺》2015年第8期161-163,共3页唐秀凤 罗发 周万城 朱冬梅 
采用直流反应磁控溅射的方法将1μm厚的氧化铝涂层沉积于K424镍基高温合金基底上。为了减少涂层缺陷,优化涂层性能,本文以不同的升温速率对制备得到的氧化铝涂层进行500℃保温1 h的退火处理,并通过XRD、SEM等研究了退火升温速率对氧化...
关键词：氧化铝涂层 直流反应磁控溅射 退火升温速率 表面处理 
极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征被引量：4
《光学学报》2015年第3期403-410,共8页王珣 金春水 李春 匡尚奇 
国家重大科技专项
极紫外(EUV)反射镜在使用过程中的氧化及表面碳污染沉积,严重影响了极紫外光刻(EUVL)技术的工业应用。为了延长EUV反射镜的稳定性与使用寿命,一般采取在Mo/Si多层膜表面添加保护层。采用直流反应磁控溅射技术,建立氧气流量与溅射电压之...
关键词：薄膜 极紫外保护层 直流反应磁控溅射 迟滞回线 
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