唐秀凤

作品数:5被引量:23H指数:3
导出分析报告
供职机构:西北工业大学材料学院凝固技术国家重点实验室更多>>
发文主题:退火直流反应磁控溅射红外发射率镍基高温合金磁控溅射制备更多>>
发文领域:金属学及工艺一般工业技术更多>>
发文期刊:《无机材料学报》《热加工工艺》《稀有金属材料与工程》更多>>
所获基金:国家重点实验室开放基金国家自然科学基金更多>>
-

检索结果分析

署名顺序

  • 全部
  • 第一作者
结果分析中...
条 记 录,以下是1-5
视图:
排序:
退火升温速率对氧化铝涂层性能的影响研究
《热加工工艺》2015年第8期161-163,共3页唐秀凤 罗发 周万城 朱冬梅 
采用直流反应磁控溅射的方法将1μm厚的氧化铝涂层沉积于K424镍基高温合金基底上。为了减少涂层缺陷,优化涂层性能,本文以不同的升温速率对制备得到的氧化铝涂层进行500℃保温1 h的退火处理,并通过XRD、SEM等研究了退火升温速率对氧化...
关键词:氧化铝涂层 直流反应磁控溅射 退火升温速率 表面处理 
溅射气压对直流磁控溅射ZnO:Al薄膜的影响(英文)被引量:1
《无机材料学报》2012年第10期1112-1116,共5页孙可为 周万城 黄珊珊 唐秀凤 
National Natural Science Foundation of China(51072165)
采用直流磁控溅射法在玻璃基片上沉积ZnO:Al(AZO)薄膜,溅射气压为0.2~2.2 Pa.通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、四探针和紫外–可见分光光度计对AZO薄膜的相结构、微观形貌和电光学性质进行了表征.结果表明:薄膜的沉积速率随...
关键词:ZNO:AL薄膜 直流磁控溅射 溅射气压 光电性质 
直流反应磁控溅射制备氧化铝薄膜被引量:12
《热加工工艺》2011年第14期120-123,共4页唐秀凤 罗发 周万城 朱冬梅 
采用直流反应磁控溅射,以高纯Al为靶材,高纯O2为反应气体,在镍基合金和单晶硅基片上制备了氧化铝薄膜,并对氧化铝薄膜的沉积速率和表面形貌进行了研究。结果表明,氧化铝薄膜的沉积速率随溅射功率的增大先几乎呈线性增大而后增速趋缓;随...
关键词:直流反应磁控溅射 氧化铝薄膜 沉积速率 退火 表面形貌 
磁控溅射Ni/Au/Pt多层膜红外发射率特征研究被引量:6
《稀有金属材料与工程》2011年第3期534-537,共4页黄智斌 周万城 唐秀凤 罗发 朱冬梅 
凝固技术国家重点实验室自主研究课题(KP200901)
研究了表面镀Ni/Au/Pt多层膜的K424合金在热处理前后红外发射率的变化及变化机理。XRD分析结果表明,在热处理后,试样表面主要由Au0.7Cr0.3和Pt组成,说明合金基体元素在600℃下会向外扩散。SEM分析表明,粗糙表面镀金膜的试样在热处理后,...
关键词:镍基高温合金 Ni/Au/Pt多层膜 红外发射率 
K424合金镀金膜后红外发射率变化被引量:4
《稀有金属材料与工程》2009年第8期1402-1405,共4页黄智斌 朱冬梅 唐秀凤 周万城 罗发 
凝固技术国家重点实验室(西北工业大学)自主研究课题
研究了表面镀金膜的K424合金在热处理前后红外发射率的变化和变化机制。XRD分析结果表明,在热处理后基体金属元素扩散到金膜中,并主要形成了Cr在Au中的固溶体—Au0.7Cr0.3。EDXS分析表明,粗糙表面镀金膜的试样在热处理后,表面主要形成...
关键词:镍基高温合金 金膜 红外发射率 
检索报告 对象比较 聚类工具 使用帮助 返回顶部