氮分压

作品数：56被引量：131H指数：6
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Al_2O_3基陶瓷及玻璃基底制备Ta-N薄膜微结构与电学特性的比较研究
《材料导报》2012年第10期23-26,共4页马扬昭 谢中 周艳明 夏丰金 冯双磊 李科 
中央高校基本科研业务费(531107040232;53110704334)
在N2、Ar气氛中,采用反应直流磁控溅射法在Al2O3基陶瓷及玻璃基底上制备了Ta-N薄膜,并对各样品的形貌结构、化学组分及电学特性进行了比较分析研究。结果表明,沉积于Al2O3陶瓷及玻璃基底的Ta-N薄膜分别呈团簇状生长与层状紧密堆积生长;A...
关键词：Al2O3基陶瓷基底 玻璃基底Ta-N薄膜反应磁控溅射氮分压 电阻温度系数 
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