SI1-X-YGEXCY

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Si基富Ge含量Si_(1-x-y)Ge_xC_y异质结构的热退火行为研究
《高技术通讯》2000年第10期32-35,共4页程雪梅 郑有炓 韩平 刘夏冰 朱顺明 罗志云 江若琏 
国家自然科学基金!( 696360 4 0 );高等学校博士学科点专项科研基金;国家攀登计划资助项目
研究了Si基富Ge含量的Si1 x yGexCy 异质结构的热退火行为。采用等离子体增强化学气相淀积 (PECVD)法在Si(10 0 )衬底上淀积一层厚度为 170nm的Si1 x yGexCy 薄膜 (x~ 0 .7,y~ 0 .15) ,并在其上覆盖一Ge层。将样品分别在 6 50℃和 80 ...
关键词:热退火 GE/SI1-X-YGEXCY/SI异质结构 PECVD 硅基 三元体系合金 
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