GH202合金

作品数：13被引量：17H指数：2
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配位剂对GH202合金化学镀镍–磷的影响被引量：1
《电镀与涂饰》2014年第11期470-473,共4页曾凡 谭澄宇 龙亚雄 马灿 
军工配套项目(MKPT-04-106)
研究了配位剂CH3COONa和NH4C1对GH202合金酸性化学镀镍镀速和镀层磷含量的影响，分析了化学镀过程中镍离子和次磷酸根离子的消耗量。镀液的组成和工艺条件为：NiSO4·7H2O 80 g／L，NaH2PO2·H2O 24g/L，H3BO3 8 g／L，CH3COONa·H2O 6...
关键词：镍—磷镀层 化学镀 配位剂 沉积速率 结合力 
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