表面化学镀铜

作品数：52被引量：194H指数：8
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等离子体处理对ITO表面化学镀铜的影响被引量：2
《电子器件》2011年第4期402-405,共4页张官理 樊兆雯 张月平 
由于常规的化学镀铜层存在易剥落、不均匀、清洁度差等问题,所以提出在化学镀铜工艺之前增加等离子体处理工序。通过改变等离子体功率、处理时间和处理距离等参数,使ITO表面获得较好的化学镀铜层。实验结果表明,处理距离越短对减小水接...
关键词：非金属表面化学镀铜 等离子体 表面处理 附着力 洁净度 
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