谷立新

作品数:1被引量:1H指数:1
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供职机构:北京工业大学固体微结构与性能研究所更多>>
发文主题:晶化温度透射电镜GETE相变材料电学性能更多>>
发文领域:一般工业技术理学电子电信更多>>
发文期刊:《电子显微学报》更多>>
所获基金:教育部“新世纪优秀人才支持计划”北京市自然科学基金国家自然科学基金更多>>
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Sb含量对GeTe-Sb相变薄膜电学性能和微观结构的影响被引量:1
《电子显微学报》2013年第3期192-197,共6页谷立新 周夕淋 张斌 张滔 刘显强 韩晓东 吴良才 宋志棠 张泽 
国家自然科学基金资助项目(No.11204008);北京市教育委员会重点项目计划(No.JB102001200801);教育部新世纪优秀人才支持计划(No.05009015200701);北京市自然科学基金资助项目(No.1122003)
通过磁控溅射方法制备了不同成分的GeTe-Sb薄膜,利用电阻-温度(R-T)测试、X射线衍射(XRD)和电子显微学方法对其进行了电学性能和微观结构的表征。发现薄膜的晶化温度随着Sb含量的增加先升高后降低;XRD分析表明Sb含量的不同导致薄膜晶体...
关键词:GeSbTe 相变材料 晶化温度 透射电镜 
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