陈晓磊

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供职机构：南京航空航天大学更多>>
发文主题：电解加工定域性微细电解加工掩模板电解加工技术更多>>
发文领域：金属学及工艺机械工程更多>>
发文期刊：《电加工与模具》更多>>
所获基金：中国航空科学基金国家自然科学基金NSFC-广东联合基金更多>>
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基于光致抗蚀干膜的掩膜制备及其应用研究
《电加工与模具》2014年第5期24-27,40,共5页曾永彬 蔡伟伟 李寒松 陈晓磊 张西方 
广东联合基金重点项目(U1134003);航空科学基金资助项目(2012ZE52068)
在传统工艺流程中,必须先将干膜贴于工件表面,然后进行光刻,但干膜不可重复使用。现提出一种新型干膜光刻工艺流程,在干膜贴于工件表面之前,先对干膜单独进行光刻试验研究。基于该新型工艺流程,研究了杜邦干膜GPM220的曝光及显影特性。...
关键词：光致抗蚀剂(干膜) 曝光 显影 掩膜电解 
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