王晓梅

作品数：2被引量：5H指数：1
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供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
发文主题：残余应力氮化硅薄膜光学带隙折射率应力更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《光学学报》《电子器件》更多>>
所获基金：国家重点实验室开放基金国家自然科学基金更多>>
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氮化硅薄膜的应力与性能控制被引量：4
《电子器件》2010年第4期407-411,共5页周东 许向东 王志 王晓梅 蒋亚东 
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室开放课题资助(KFJJ200917);国家自然科学基金项目资助(60736005)
提出一种通过构建特殊的多层膜结构的方法,降低SiNx薄膜的残余应力。曲率和拉曼两种测量结果都表明,通过引入一层240nmSiO2薄膜,可以使SiNx薄膜的残余应力从高的张应力(+358MPa)明显地降低到低的压应力(-57MPa)。重要的是,这种应力的改...
关键词：残余应力 光学带隙 折射率 
用于微测辐射热计氮化硅薄膜特性与结构研究被引量：1
《光学学报》2010年第10期2782-2787,共6页周东 许向东 王志 王晓梅 蒋亚东 
氮化硅(SiNx∶H)薄膜通常用作微测辐射热计焦平面阵列的支撑层、绝缘或隔热层。通过射频等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备了富硅型(0.80≤x≤1.16)氮化硅薄膜,利用X射线光电子能谱(XPS)和傅里叶红外透射光谱(FTIR)分析了薄膜的微观...
关键词：薄膜 微测辐射热计焦平面阵列 氮化硅薄膜 残余应力 微观结构 傅里叶红外透射光谱 
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