刘新

作品数：1被引量：7H指数：1
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通过添加表面活性剂和螯合剂改进硅片化学清洗工艺的研究被引量：7
《半导体光电》2014年第3期468-471,共4页黄绍春 刘新 叶嗣荣 刘小芹 
通过在传统RCA清洗法所用的SC-1液中,添加表面活性剂四甲基氢氧化铵(TMAH)和/或螯合剂乙二胺四乙酸(EDTA),实验比较了不同清洗方法对颗粒粘污、金属粘污的去除效率;并测试了其对硅片表面粗糙度的影响。用MOS电容结构的击穿电场强度Weib...
关键词：RCA清洗法 湿法化学清洗 四甲基氢氧化铵(TMAH) 乙二胺四乙酸(EDTA) 
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