溅射压强对射频磁控溅射制备ZnO薄膜的影响  

作　　者：王开平 

机构地区：[1]大连东软信息学院,辽宁大连

出　　处：《读天下（综合）》2019年第25期0272-0272,共1页

摘　　要：采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO薄膜,我们利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对不同溅射压强下制备薄膜的相结构和表面形貌进行分析,结果表明:在溅射压强1Pa及1Pa以下时制备的ZnO薄膜表面光滑,结构致密,晶粒尺寸均匀,且沿c轴择优生长。

关 键 词：ZNO薄膜 射频磁控溅射 溅射压强 

分 类 号：G[文化科学]