套刻精度标准样片的制备工艺及其在光刻工艺中的应用探索  

作　　者：赵昭[1] 

机构地区：[1]中国电子技术标准化研究院,北京 100176

出　　处：《中文科技期刊数据库(文摘版)工程技术》2024年第8期028-031,共4页

摘　　要：在微电子器件的制造中,光刻工艺对套刻精度有着严格的要求。本文以此为背景,着重探讨了套刻精度标准样片的制备工艺以及其在光刻工艺中的应用。确定了制作套刻标准样片的最佳工艺条件,并成功制备出高精度套刻标准样片。在光刻中的实际应用过程中对这些样片进行了测试和评估,测试结果表明,此标准样片可以有效地提高光刻的套刻精度,进而提高微电子器件的精度,还进一步分析了提升精度方式的机理。这些结果与现有的理论和实验数据都有着很好的匹配性,证实了制备出的套刻精度样片在改进和优化光刻工艺中的重要应用价值。本研究为微电子器件领域提供了一种有效的工艺优化方法,对于提升产品质量、降低生产成本具有实际意义。

关 键 词：套刻精度 标准样片 制备工艺 光刻 

分 类 号：O436[机械工程—光学工程]