套刻精度

作品数：18被引量：42H指数：3
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套刻精度标准样片的制备工艺及其在光刻工艺中的应用探索
《中文科技期刊数据库(文摘版)工程技术》2024年第8期028-031,共4页赵昭 
在微电子器件的制造中,光刻工艺对套刻精度有着严格的要求。本文以此为背景,着重探讨了套刻精度标准样片的制备工艺以及其在光刻工艺中的应用。确定了制作套刻标准样片的最佳工艺条件,并成功制备出高精度套刻标准样片。在光刻中的实际...
关键词：套刻精度 标准样片 制备工艺 光刻 
铝金属溅射工艺优化改善光刻套刻精度
《集成电路应用》2016年第7期34-37,共4页陈菊英 姚亮 
铝互连线采用三明治结构的多层金属薄膜的堆叠(stacked structure),底层与顶层是钛和氮化钛的组合,中间层用铝合金薄膜,在集成电路和半导体器件制造中有着广泛的应用,但AL Grain是个绕不过去的问题。从超深亚微米0.11μm制程中严重的AL ...
关键词：铝互连 首枚效应 AL GRAIN 反射率 套刻精度 
基于瞳面干涉的自参考干涉仪的研制被引量：1
《仪器仪表学报》2016年第S1期74-77,共4页罗佳林 许琦欣 侯文玫 金涛 
沪江基金(C14002)项目资助
为了用更简单的光学器件使对准标记产生的衍射光实现重叠干涉,同时能够降低对准系统的加工和装调难度,设计了基于瞳面干涉的自参考干涉仪系统。首先,对当前光刻机所使用的对准技术展开研究,以光栅衍射原理和偏振光学为理论基础,提出了用...
关键词：光刻机 自参考干涉仪 对准系统 套刻精度 
UV-LIGA技术在多层微结构制备中的工艺研究被引量：1
《压电与声光》2009年第5期706-708,共3页朱军 汪红 陈翔 陈迪 刘景全 
国家重点实验室基金资助项目(914OC7903070608;914OC7903060706)
UV-LIGA技术在制备多层复杂微结构时存在如何确保多层套刻对准精度,尺寸控制精度及层间良好结合的问题。该文对这些问题进行了分析与实验研究,实验证明,弱曝光是产生层间位移,影响套刻精度的原因之一,减少曝光所产生的应力应以不发生位...
关键词：UV—LIGA 多层 套刻精度 曝光 中烘 
ASML推出创新光刻平台TWINSCAN NXT套刻精度及生产能力显著提高
《电子工业专用设备》2008年第10期65-65,共1页
光刻巨头ASML Holding NV（ASML）公司日期推出了创新光刻平台TWINSCAN NXT，套刻精度（overlay）及生产能力（productivity）显著提高，将有力推动半导体制程蓝图的前进。另外，ASML Research Review称，TWINSCAN NXT平台也适用于双图...
关键词：生产能力 套刻精度 NXT 平台 光刻 创新 半导体制程 
降低双重图形光刻的成本被引量：1
《集成电路应用》2008年第11期37-38,共2页J.Provoost A.Miller M.Maenhoudt 
双重图形（DP）将是32nm技术节点的备选光刻技术之一。但由于这种方法需要两次曝光和两次刻蚀步骤,因此工艺成本较高且比较耗时。IMEC及其研发伙伴已经详细研究了替代工艺流程,从成本、关键尺寸均匀性（CDU）、线条粗糙度（LR）和套刻...
关键词：工艺成本 光刻技术 图形 工艺流程 技术节点 两次曝光 关键尺寸 套刻精度 
超高数值孔径镜头面临的挑战
《集成电路应用》2007年第4期47-48,共2页Holly Magoon Raluca Popescu Tomoyuki Matsuyama 
近来，关于浸没式光刻的讨论很多，不过它们大多集中在缺陷率和套刻精度上，而很少涉及到浸没式技术怎样使光刻机供应商具备设计与制造超高数值孔径镜头的能力，而这曾被认为是不可能实现的。尽管理论上折射式镜头能够扩展到很高的NA，...
关键词：高数值孔径 镜头 光刻机 套刻精度 浸没式 缺陷率 供应商 折射式 
解读ITRS 2002 Lithography
《电子工业专用设备》2004年第3期16-21,共6页立文 
关键词：国际半导体技术发展路线 ITRS2002 光刻技术 缺陷监测 曝光 套刻精度 
步进扫描投影光刻机工件台和掩模台的进展被引量：22
《激光与光电子学进展》2003年第5期14-20,共7页刘丹 程兆谷 高海军 黄惠杰 赵全忠 谌巍 
着重介绍了当前国外步进扫描投影光刻机的工件台和掩模台的发展状况,并对套刻精度和整机精度进行了分析。
关键词：步进扫描投影光刻机 工件台 掩模台 发展状况 套刻精度 整机精度 测量系统 控制系统 
光刻机的匹配和调整被引量：3
《电子与封装》2003年第3期40-44,共5页周虎明 韩隽 
光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主 要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配,如何调整相同型号光刻机的匹配使用将是本文论述的重点。
关键词：套刻精度 误差 匹配 调整 
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