解读ITRS 2002 Lithography  

作　　者：立文 

机构地区：[1]本刊编辑

出　　处：《电子工业专用设备》2004年第3期16-21,共6页Equipment for Electronic Products Manufacturing

关 键 词：国际半导体技术发展路线 ITRS2002 光刻技术 缺陷监测 曝光 套刻精度 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]