超高数值孔径镜头面临的挑战  

作　　者：Holly Magoon Raluca Popescu Tomoyuki Matsuyama 

机构地区：[1]Nikon Precision Inc.

出　　处：《集成电路应用》2007年第4期47-48,共2页Application of IC

摘　　要：近来，关于浸没式光刻的讨论很多，不过它们大多集中在缺陷率和套刻精度上，而很少涉及到浸没式技术怎样使光刻机供应商具备设计与制造超高数值孔径镜头的能力，而这曾被认为是不可能实现的。尽管理论上折射式镜头能够扩展到很高的NA，但是由于受到材料和光刻机尺寸的限制，

关 键 词：高数值孔径 镜头 光刻机 套刻精度 浸没式 缺陷率 供应商 折射式 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]