步进扫描投影光刻机工件台和掩模台的进展  

Proress of Wafer Stage and Reticle Stage for Step-and-Scan-Lithography System

作　　者：刘丹[1] 程兆谷[1] 高海军[1] 黄惠杰[1] 赵全忠[1] 谌巍[1] 

机构地区：[1]中国科学院上海光学精密机械研究所,上海201800

出　　处：《激光与光电子学进展》2003年第5期14-20,共7页Laser & Optoelectronics Progress

摘　　要：着重介绍了当前国外步进扫描投影光刻机的工件台和掩模台的发展状况,并对套刻精度和整机精度进行了分析。Recent progress in technology of wafer stage and reticle stage used in step-and-scan lithography system is introduced, and the overlay accuracy and the accuracy of the overall system are analyzed.

关 键 词：步进扫描投影光刻机 工件台 掩模台 发展状况 套刻精度 整机精度 测量系统 控制系统 

分 类 号：TP333.4[自动化与计算机技术—计算机系统结构]