ASML推出创新光刻平台TWINSCAN NXT套刻精度及生产能力显著提高  

出　　处：《电子工业专用设备》2008年第10期65-65,共1页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：光刻巨头ASML Holding NV（ASML）公司日期推出了创新光刻平台TWINSCAN NXT，套刻精度（overlay）及生产能力（productivity）显著提高，将有力推动半导体制程蓝图的前进。另外，ASML Research Review称，TWINSCAN NXT平台也适用于双图形曝光（double patterning）技术。

关 键 词：生产能力 套刻精度 NXT 平台 光刻 创新 半导体制程 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] F426.7[经济管理—产业经济]