周虎明

作品数：2被引量：5H指数：1
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供职机构：中国电子科技集团第五十八研究所更多>>
发文主题：光刻机套刻精度成像步进光刻机半导体更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《电子工业专用设备》《电子与封装》更多>>
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光刻机的匹配和调整被引量：3
《电子与封装》2003年第3期40-44,共5页周虎明 韩隽 
光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主 要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配,如何调整相同型号光刻机的匹配使用将是本文论述的重点。
关键词：套刻精度 误差 匹配 调整 
步进光刻机中的成像线宽控制被引量：2
《电子工业专用设备》2001年第1期27-33,共7页周虎明 
线宽控制是光刻质量的关键。以 0 8～ 1 0 μmIC电路生产为依据 ,讨论光刻机特性影响成像线宽的因素以及使用中的最佳调整。
关键词：步进光刻机 线宽控制 线宽误差 半导体 
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