移相式点衍射干涉仪的几个关键技术  

Technical problems in phase-shifting point diffraction interferometer

作　　者：刘景峰[1] 李艳秋[1] 刘克[1] 

机构地区：[1]中国科学院电工研究所

出　　处：《仪器仪表学报》2007年第S1期179-182,共4页Chinese Journal of Scientific Instrument

基　　金：863IC装备专项;976计划(2003CB716204)资助项目

摘　　要：极紫外光刻技术作为下一代光刻技术的最佳候选技术,为了得到衍射极限的分辨率,光学系统的RMS波像差应小于其工作波长的1/14,约为1 nm,这对检测技术提出了前所未有的要求。本文以应用于极紫外光刻光学系统波像差检测中的移相式点衍射干涉仪为基础,对干涉仪中几个关键技术进行了讨论,并给出了相应的解决方法。Extreme ultraviolet lithography(EUVL) technique is one of the most promising candidate next-Generation lithography technologies,in order to achieve diffraction-limited performance,the allowable wavefront error of the optical system must be less than one fourteenth of its work wavelength,viz.1 nm RMS,which lies an unprecedented challenge on optical testing.The paper ultilized the phase-shifting point diffraction interferometer,which was designed and constructed for the purpose of developing wavefront measure...

关 键 词：极紫外光刻 波像差 移相式点衍射干涉仪 

分 类 号：TH744.3[机械工程—光学工程]