超薄铝膜的制备与透光率的研究  

Study on Transmittance Property on Ultrathin Aluminum Film

作　　者：付光宗[1] 杨丰帆[1] 杨小红[1,2] 廖克俊 刘高彬[1] 

机构地区：[1]重庆大学,重庆400044 [2]重庆师范大学,重庆400047

出　　处：《中国机械工程》2005年第z1期352-354,共3页China Mechanical Engineering

摘　　要：当铝(Al)膜的厚度在100nm时,可以作为一种光学薄膜使用.用这种超薄铝膜制成光学元件具有耐激光以及损耗小等特点,在大功率激光系统中将得到应用.利用高纯铝靶,运用直流磁控溅射法制备了超薄铝膜,利用双光束分光光度计研究了其光学性质,测试了超薄铝膜的制备条件,如工作压强、靶基距、溅射时间等对薄膜的光学性质的影响.得到了工作压强、靶基距及溅射功率与薄膜的光学性质之间的关系.

关 键 词：超薄铝膜 透射率 光学性质 直流磁控溅射 

分 类 号：TB43[一般工业技术]