CVD金刚石厚膜晶格缺陷分析  

Lattice defect analysis of CVD diamond thick films

作　　者：孙心瑗[1] 周灵平[1] 林良武[1] 李得意[1] 李绍禄[1] 陈本敬[1] 

机构地区：[1]湖南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410082 湖南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410082 湖南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410082 湖南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410082 湖南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410082 湖南大学,材料科学与工程学院,湖南,长沙,410082

出　　处：《功能材料》2004年第z1期2193-2195,共3页Journal of Functional Materials

摘　　要：应用X射线衍射仪的薄膜附件对热丝化学气相沉积金刚石厚膜的成核面和生长面进行分析,结果表明,金刚石厚膜的晶格常数从生长面到形核面沿深度方向是逐渐变小的.化学气相沉积金刚石初期生长的晶体存在大量的空位等缺陷,晶格松弛,在金刚石膜持续生长过程中,形核面和膜内部在高温下发生长时间的自退火,缺陷浓度下降,晶格松弛现象消除,晶格常数变小并趋于理论值.试验表明,经长时间高温自退火的金刚石厚膜比薄膜具有更高的耐磨性.

关 键 词：CVD金刚石膜 X射线衍射 晶格松弛 自退火 耐磨性能 

分 类 号：TG71[金属学及工艺—刀具与模具] O781[理学—晶体学]