李绍禄

作品数:44被引量:235H指数:8
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供职机构:湖南大学更多>>
发文主题:类金刚石膜金刚石薄膜离子束金刚石表面改性更多>>
发文领域:金属学及工艺一般工业技术理学化学工程更多>>
发文期刊:《炭素》《微细加工技术》《功能材料》《金属热处理》更多>>
所获基金:国家自然科学基金湖南省自然科学基金机械工业技术发展基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”更多>>
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空间低轨长寿命飞行器用太阳电池复合互连材料的设计被引量:1
《材料导报》2015年第2期143-149,共7页邱沛 朱家俊 周灵平 李德意 李绍禄 
国家自然科学基金(51401080)
空间太阳电池在低地球轨道工作时受到原子氧等的腐蚀,其互连材料的寿命决定了电池的寿命。为此,设计了一种Ag/Mo/Ag三层夹心结构的复合互连材料取代目前使用的纯Ag互连材料,选择耐原子氧腐蚀的Mo作为衬底材料,涂覆Ag薄膜以利于电阻焊接...
关键词:互连材料 Ag薄膜 太阳电池 空间 Mo箔 
银膜厚度对低辐射玻璃光学性能的影响被引量:3
《机械工程材料》2013年第3期49-52,57,共5页徐兴红 周灵平 彭坤 朱家俊 李德意 李绍禄 
教育部新世纪人才项目(NCET-11-0127);湖南省重大科技攻关项目(2011GK4050)
利用TFCalc软件模拟了银膜和TiO2膜厚度对TiO2/Ag/Ti/TiO2膜系光学性能的影响,根据模拟结果利用电子束蒸发方法在玻璃衬底上制备了不同银膜厚度的TiO2/Ag/Ti/TiO2低辐射薄膜,并对银膜的连续性及其低辐射玻璃的透射率进行了研究。结果表...
关键词:低辐射玻璃 连续性 银膜 光学性能 
TiO_2薄膜折射率的调控方法
《湖南大学学报(自然科学版)》2011年第9期59-63,共5页周灵平 罗小兰 朱家俊 彭坤 李德意 李绍禄 
国家自然科学基金资助项目(10904071)
采用电子束蒸发技术及其辅助工艺制备了TiO2薄膜,利用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)对薄膜的组织结构进行了表征,采用紫外可见分光光度计研究了TiO2薄膜的折射率变化.结果表明:传统电子束蒸发镀制的TiO2薄...
关键词:薄膜 折射率 电子束蒸发 
热丝CVD法制备大面积金刚石薄膜基片的变形被引量:1
《机械工程材料》2011年第7期35-38,共4页陈峰武 周灵平 朱家俊 李德意 彭坤 李绍禄 
采用热丝CVD法制备的大面积金刚石薄膜存在基片变形严重的问题,通过对热丝CVD设备和沉积工艺进行改进,成功解决了直径76mm、厚度0.4mm硅片的变形问题。结果表明:改进后金刚石薄膜基片的翘曲度为0.296%,比改进前的降低了88.9%;改进后金...
关键词:金刚石薄膜 热丝CVD 变形 均匀性 
双靶反应磁控溅射共沉积AlN薄膜粘结性能研究
《人工晶体学报》2010年第1期77-81,共5页朱家俊 周灵平 刘新胜 彭坤 李德意 李绍禄 
采用单、双靶反应磁控溅射法分别在45钢、GCr15钢、硅(100)和钼衬底上制备了AlN薄膜。X射线衍射和电子显微分析表明,双靶反应磁控溅射沉积的AlN薄膜具有高致密度和低残余应力,同时采用划痕法和压痕法等对AlN薄膜的粘结强度进行测试,结...
关键词:ALN薄膜 反应磁控溅射 粘结强度 共沉积 
磁控溅射Cu-W薄膜的组织与结构被引量:5
《材料科学与工程学报》2008年第4期582-584,598,共4页王瑞 周灵平 汪明朴 朱家俊 李德意 李绍禄 
采用双靶磁控溅射共沉积方法制备Cu-W薄膜,其微观结构及形貌通过XRD、TEM和SEM方法测试,结果表明,Cu-W薄膜是由Cu固溶于W或W固溶于Cu的亚稳态固溶体组成,且随着W含量的增加,Cu-W薄膜依次形成面心立方fcc结构的Cu基亚稳固溶体f、cc和bcc...
关键词:低维金属材料 铜钨薄膜 磁控溅射 亚稳固溶体 
衬底温度对直流磁控溅射沉积AlN薄膜组织结构的影响被引量:1
《矿冶工程》2007年第3期82-85,共4页刘新胜 周灵平 门海泉 李德意 李绍禄 
采用直流反应磁控溅射法在不同衬底温度(20-490℃)下沉积了A lN薄膜,用XRD分析了薄膜的择优取向,用高分辨场发射扫描电镜来表征了薄膜的表面型貌。实验结果表明,当衬底处在20℃冷却的样品台沉积A lN时其上没有晶态的薄膜生成;衬底处...
关键词:ALN薄膜 衬底温度 择优取向 表面形貌 反应磁控溅射 
双靶磁控溅射聚焦共沉积AlN薄膜生长速率研究被引量:2
《人工晶体学报》2006年第5期1141-1145,1150,共6页门海泉 周灵平 刘新胜 李德意 李绍禄 肖汉宁 
采用直流双靶磁控溅射聚焦共沉积技术在Fe衬底上高速率生长A lN薄膜,结果表明,双靶共沉积技术有效地提高了A lN薄膜生长速率,相同工作气压或低N2浓度时双靶磁控溅射沉积速率约为单靶沉积速率的2倍;随着溅射系统内工作气压或N2浓度的升高...
关键词:ALN薄膜 共沉积 生长速率 磁控溅射 择优取向 
碳纳米管复合镀层在不同摩擦组合下的摩擦学行为被引量:8
《中国有色金属学报》2005年第7期1062-1068,共7页陈传盛 陈小华 李绍禄 周灵平 李德意 李学谦 
国家自然科学基金资助项目(5037202059972031);湖南省自然科学基金资助项目(01JJY2052)
对CVD法制备的碳纳米管进行了表面改性和修饰,然后通过化学共沉积方法制备了高硬度的碳纳米管复合镀层,并研究了碳纳米管复合镀层在不同摩擦组合下的摩擦学行为。结果表明:经过改性处理后的碳纳米管表面拥有丰富的表面官能团,这使大量...
关键词:碳纳米管 表面改性 复合镀层 摩擦行为 
Ar^+能量及低能轰击对离子溅射铜钨薄膜结构的影响被引量:1
《河南科技大学学报(自然科学版)》2005年第3期1-3,共3页艾永平 周灵平 陈兴科 刘俊伟 李绍禄 
国防科研基金资助项目(MKPT-03-146)
研究了双离子束溅射制备铜钨薄膜时Ar+能量及低能辅助轰击对膜结构的影响。实验结果表明,以铜为衬底,铜靶Ar+能量在1~2keV、钨靶Ar+能量在3keV左右时,离子溅射铜钨薄膜是以钨的非晶态为骨架机械夹杂着铜晶粒的方式存在。铜晶粒度随铜靶...
关键词:Ar^+ 离子溅射 能量 薄膜结构 低能 溅射制备 双离子束 晶格畸变 晶体缺陷 钨薄膜 非晶态 晶粒度 临界值 固溶体 衍射峰 铜靶 
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