溅射制备

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磁控溅射制备Mo薄膜及其在Sb_(2)Se_(3)薄膜太阳电池中的应用
《常熟理工学院学报》2025年第2期11-16,共6页彭明姗 马靓文 丛姗 易庆华 房勇 韩志达 钱斌 江学范 张磊 
本文采用磁控溅射技术制备钼(Mo)薄膜,通过X射线衍射、扫描电子显微镜、紫外-可见分光光度计和四探针电阻率测试仪研究了沉积气压和衬底温度对薄膜结构、光学及电学性能的影响.结果表明,随着沉积气压的升高,Mo薄膜的结晶性降低,反射率...
关键词：磁控溅射 MO薄膜 Sb_(2)Se_(3) 太阳电池 
射频磁控溅射制备SnS薄膜及其特性研究
《延边大学学报(自然科学版)》2024年第4期20-25,共6页杨壮 戚庆碧 顾广瑞 
国家自然科学基金(51272224);吉林省自然科学基金(20210101163JC)。
以玻璃和硅(Si)为衬底,采用射频磁控溅射法在不同溅射压强下制备了SnS薄膜.利用X射线衍射仪对SnS薄膜进行表征分析显示,所有样品均沿(111)面择优生长,溅射压强为0.8 Pa时薄膜结晶性最好;使用场发射扫描电子显微镜对SnS薄膜进行测试,结...
关键词：射频磁控溅射法 溅射压强 SnS薄膜 薄膜结构 光学性能 
玻璃表面中频磁控溅射制备氮化铝薄膜的晶面择优取向调控
《真空科学与技术学报》2024年第12期1075-1083,共9页张丽娜 高飞 陆文琪 
氮化铝(AlN)是一种性能优异的陶瓷材料,在微电子、电子元件、高频宽带通信以及功率半导体器件等领域有广泛应用,然而AlN薄膜的一些特性具有显著的各向异性。因此,调控AlN薄膜的择优取向一直备受科研工作者的关注。文章利用中频反应磁控...
关键词：中频磁控溅射 玻璃基片 ALN薄膜 择优取向 
磁控溅射制备锌镍合金薄膜的结构及耐蚀性能研究
《材料保护》2024年第11期10-17,共8页袁景追 喻岚 杨旭江 刘晓红 李红轩 吉利 
国家重点研发计划(2021YFB3400400)。
为提高飞机结构件的耐蚀性能,采用闭合场非平衡磁控溅射技术在18Cr3Ni结构钢表面制备了锌镍合金薄膜,考察了锌靶和镍靶电流对薄膜表面形貌、微观结构和耐蚀性能的影响。分别采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和纳米压痕仪对薄膜的微...
关键词：锌镍合金薄膜 靶电流 耐蚀性能 镍含量 磁控溅射 
工艺参数对磁控溅射制备Ag涂层微观性能的影响研究
《材料保护》2024年第11期147-155,共9页黄鑫宇 戎文娟 黄永玲 王佳琳 
北京大学第一医院委托科研项目“自抗菌人工髋关节假体银涂层制备及研发”。
采用正交试验法,探究磁控溅射工艺下的溅射温度、磁控靶功率、溅射时间对Ag涂层与基体结合性能与疏水性能的影响,研究总结出Ag沉积涂层形貌变化规律与最佳成形参数指标。采用能谱仪对正交试验参数下的涂层进行化学成分分析;采用扫描电镜...
关键词：正交试验 磁控溅射 Ag涂层 微观性能 
靶电流对磁控溅射制备TiB_(2)薄膜结构及性能的影响
《中国表面工程》2024年第5期147-157,共11页冷啸 李红轩 吉利 张定军 
国家自然科学基金-叶企孙联合基金(U2141210);中国科学院青促会优秀会员(Y202084);“一三五”重大突破项目(KJZLZD-3,ZYFZFX-4);甘肃省科技重大专项(22ZD6GA002)。
机械加工工艺的进步对切削刀具的性能提出了愈发严苛的要求,一方面刀具应具有更高强度及韧性以便应对高速切削带来的冲击载荷;另一方面刀具还应兼具优异的耐高温、抗氧化性能以满足极端工况下的服役需求。然而,传统刀具硬度的提升往往...
关键词：磁控溅射 TIB2 靶电流 晶面结构 摩擦磨损 
基于倾斜旋转方法磁控溅射制备TSV阻挡层
《半导体技术》2024年第8期726-731,共6页申菊 卢林红 杜承钢 冉景杨 闵睿 杨发顺 马奎 
贵州省科技计划项目(黔科合支撑[2023]一般283)。
硅通孔(TSV)是实现三维集成的关键技术,在TSV侧壁制备连续和均匀的阻挡层至关重要。提出了一种磁控溅射制备TSV侧壁阻挡层的方法,将溅射基台倾斜一定角度并水平匀速旋转,使溅射离子的掉落方向与TSV侧壁不平行,靶材离子更容易溅射沉积在...
关键词：硅通孔(TSV) 阻挡层 磁控溅射 溅射电流 溅射气压 
闭合场-磁控溅射制备Ti掺杂MoS_(2)复合薄膜及其摩擦学性能研究
《润滑与密封》2024年第8期28-35,共8页王伟奇 陈欣仪 赵旋 林鑫 田广科 郭月霞 王锐东 令晓明 
甘肃省自然科学基金项目(21JR7RA337.21JR11RA059);国家重点研发计划项目(2021YFB3500100);兰州交通大学青年科学基金项目(2021028);甘肃省高等学校创新基金项目(2021B-094)。
采用闭合场-磁控溅射沉积技术,通过调节沉积过程中钛靶的溅射电流,分别在单晶Si(100)和304不锈钢基底上制备不同含量Ti掺杂MoS_(2)复合薄膜。利用场发射扫描电子显微镜、X射线光电子能谱仪和透射电子显微镜表征薄膜的形貌、微观结构及...
关键词：闭合场-磁控溅射 MoS_(2)润滑薄膜 摩擦学性能 力学性能 
基底温度对磁控溅射制备NiO_(x)薄膜综合电致变色性能的影响
《人工晶体学报》2024年第8期1453-1463,共11页蔡晓佳 黄家健 孙丹丹 梁嘉盈 唐秀凤 张炯 
国家自然科学基金(12004285);五邑大学创新创业基金(2022CX47)。
为研究基底温度对NiO_(x)薄膜综合电致变色性能的影响,在基底温度分别为室温、50、100、200和300℃下,采用直流反应磁控溅射法制备了NiO_(x)薄膜,并对薄膜的形貌、循环稳定性、光学调制率、记忆效应、响应时间和附着力等性能进行测试表...
关键词：电致变色 NiO_(x) 响应时间 记忆效应 循环稳定性 附着力 
磁控溅射制备LiNi_(0.8)Co_(0.1)Mn_(0.1)O_(2)薄膜工艺研究
《表面技术》2024年第6期190-197,共8页李镰池 吴爱民 宋欣忆 刘延领 王亚楠 黄昊 
中央高校基础研究基金项目(DUT20LAB123,DUT20LAB307)。
目的探究了磁控溅射法制备符合化学计量比且循环性能良好的LiNi_(0.8)Co_(0.1)Mn_(0.1)O_(2)(NCM811)薄膜工艺,有利于进一步提高全固态薄膜电池能量密度。方法从溅射功率、氩氧比、衬底温度中各选取3个水平组成L9(34)正交试验,在不锈钢...
关键词：固态薄膜电池 NCM正极薄膜 正交试验 磁控溅射 电化学性能 
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