混合生长法提高栅氧化物质量  

作　　者：陈裕权 

出　　处：《半导体信息》2009年第1期10-11,共2页Semiconductor Information

关 键 词：原子层淀积 外延炉 外延反应炉 电炉 质量 

分 类 号：TN386[电子电信—物理电子学]