中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程回顾与现状  

作　　者：陈宝钦[1] 

机构地区：[1]中国科学院微电子研究所

出　　处：《微细加工技术》2006年第1期1-2,共2页Microfabrication Technology

摘　　要：　　中国的微光刻技术(包括光掩模制造技术和光刻技术)伴随着平面工艺技术的诞生逐渐发展起来,从1965年自主成功地研制出硅平面晶体管开始算起到2005年是我国集成电路诞生和发展的四十年,也是我国微光刻技术诞生和发展的四十年.大体上可以按年代划分成如下几个阶段:……

关 键 词：平面晶体管 半导体技术 历程回顾 光刻技术 半导体制造 科技发展规划 封锁条件 应用物理 计算机系列 纳米加工 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]