基于随机偏微分方程的成膜表面形貌模拟  

作　　者：曾祥福[1] 赵嘉[1] 孙国永[2] 杨丹慧[2] 

机构地区：[1]沈阳化工学院,辽宁沈阳110142 [2]沈阳华润三洋压缩机有限公司,辽宁沈阳110142

出　　处：《硅谷》2009年第4期3-,55,共2页

摘　　要：采用随机偏微分方程模型,对薄膜生长的表面形貌进行计算机模拟,得到薄膜生长的三维形貌图。根据仿真结果,对影响成膜形貌的基底温度和沉积率进行定性分析,分析结果与实际工艺情况相符。

关 键 词：薄膜生长 随机偏微分方程 粗糙度 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理]