全自动半导体RCA清洗机  

Wet etch & its uniformity technical discuss

作　　者：段成龙[1] 祝福生[1] 

机构地区：[1]中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京101601

出　　处：《清洗世界》2013年第1期42-46,共5页Cleaning World

摘　　要：RCA清洗工艺是一种在半导体制造过程中被广泛应用的工艺,是去除硅片表面各类玷污的有效方法。本文介绍了RCA清洗工艺的原理、过程以及应用,并详细介绍了全自动半导体RCA清洗机的组成、各单元结构及功能。RCA clean is a kind of process to remove the dirt on the silicon face,which is used widely in the area of semiconductor produce.The text expounds the process principle,and its application.And expounds 'Auto Semiconductor RCA Clean System',includes the composing,part framework,and function.

关 键 词：RCA清洗工艺 化学清洗 清洗设备 全自动设备 

分 类 号：TH6[机械工程—机械制造及自动化]