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作 者:田超[1,2] 梁静秋[1] 梁中翥[1] 秦余欣[1] 王维彪[1]
机构地区:[1]中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室,吉林长春130033 [2]中国科学院大学,北京100049
出 处:《发光学报》2013年第11期1494-1499,共6页Chinese Journal of Luminescence
基 金:国家自然科学基金(61274122;61007023);吉林省科技发展项目(20100351;20120323)资助项目
摘 要:设计了一种基于AlGaInP发光材料的像素为320×240、单元像素面积为100μm×100μm微型LED阵列。通过仿真和分析,设计了一种双条形电极结构。考虑到不同电极宽度下的电流分布情况以及电极的遮光效应,设计了电极宽度为13μm的优化电极结构,使得每个发光像素的表面出光面积比为50.15%,并分析了电极对有源层出射的光的反射影响。制定了基于MOEMS工艺的微型LED器件的制作流程并进行了基本实验研究,最终给出了制作出的上电极的单个单元照片。An array of 320 × 240 micro-LED based on AlGaInP epitaxial wafer with the pixel size of100 μm × 100 μm were designed. By analyzing and simulating the current distribution of the active layer,the AlGaInP mircro-LED arrays with a kind of double strip electrode were designed. Considering the current distribution of electrode with different widths and the shelter of the electrode,the optimized electrode was gotten with the width of 13 μm,and the ratio of emitting area to each pixel is 50. 15%. Besides,a fabrication process of the device based on MOEMS technology was presented. Finally,the picture of the double strip electrode was exhibited.
关 键 词:ALGAINP 微阵列 双条形电极 微光机电系统
分 类 号:TN312.8[电子电信—物理电子学]
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