激光直写系统图形编辑软件  

Pattern Editing Software for Laser Direct Write System

作　　者：白临波[1] 孙国良[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室

出　　处：《光电工程》1997年第S1期32-36,共5页Opto-Electronic Engineering

基　　金：微细加工光学技术国家重点实验室基金

摘　　要：简要描述了一套针对激光直写系统，适用于衍射光学元件和精密码盘及其它图形的图形辅助编辑软件——ＭＡＳＫ软件，简单介绍了其功能和结构。MASK—a pattern aid editing software which is used in the laser direct write system for making of the diffractive optical elements and precision encoding disks is described.Its functions and constitution are also presented.

关 键 词：激光直写 衍射光学元件 图形软件 计算机控制 激光光刻机 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]