孙国良

作品数:10被引量:26H指数:3
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供职机构:中国科学院光电技术研究所更多>>
发文主题:光刻计算机模拟相移掩模衍射光学元件微透镜列阵更多>>
发文领域:电子电信自动化与计算机技术理学更多>>
发文期刊:《光学学报》《微细加工技术》《计算机应用研究》《光电工程》更多>>
所获基金:国家自然科学基金四川省应用基础研究计划项目国家重点实验室开放基金更多>>
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激光直写系统图形编辑软件
《光电工程》1997年第S1期32-36,共5页白临波 孙国良 
微细加工光学技术国家重点实验室基金
简要描述了一套针对激光直写系统,适用于衍射光学元件和精密码盘及其它图形的图形辅助编辑软件——MASK软件,简单介绍了其功能和结构。
关键词:激光直写 衍射光学元件 图形软件 计算机控制 激光光刻机 
微光刻相移掩模技术研究被引量:3
《光电工程》1996年第S1期1-11,共11页冯伯儒 孙国良 沈锋 阙珑 陈宝钦 崔铮 
中国国家自然科学基金资助项目 ;编号为 6 92 76 0 1
本文系统地论述了提高光刻分辨率的相移掩模技术的基本原理、计算模拟和光刻曝光实验 ;给出了模拟和实验结果 ;研究表明 ,只有在一定的临界参数条件下 ,相移掩模才能明显地改善分辨率和工艺宽容度 ;采用无铬相移掩模得到了 0 .2 μm的...
关键词:投影光刻 相移掩模 高分辨率 计算机模拟 
激光直接光刻制作微透镜列阵的方法研究被引量:8
《光学学报》1996年第8期1194-1196,共3页杜春雷 林大键 冯伯儒 孙国良 徐平 郭履容 
介绍了利用激光直接光刻技术制作8相位台阶菲涅尔衍射微透镜列阵的工艺方法,并对元件的衍射效率及光刻过程中的制作误差进行了分析,透镜列阵在小形Shack-Hartmann波前传感器中得到了应用。
关键词:激光 直接 光刻 微透镜列阵 衍射光学元件 
部分相干因子σ及其在相移掩模(PSM)模拟软件中的应用被引量:2
《光电工程》1995年第6期35-40,共6页阙珑 孙国良 冯伯儒 
国家自然科学基金;国家自然科学基金
从Hopkins公式出发,分析部分相干因子σ的物理意义。
关键词:相移掩模 光刻 部分相干光 微细加工 模拟软件 
相移掩模对曝光图形空间像光强分布影响的计算机模拟被引量:5
《微细加工技术》1995年第1期7-14,共8页沈锋 冯伯儒 孙国良 
国家自然科学基金
本文讨论了提高曝光分辨率的一种主要方法:相移掩模方法。分析了相移掩模提高分辨率的原理,提出了相移掩模成像的模拟思想,推导了数学公式,并实现了计算机模拟,给出了一些初步结果。
关键词:相移掩模 光刻 计算机模拟 VLSI 集成电路 
标记识别卡
《科技开发动态》1994年第4期34-34,共1页孙国良 
关键词:标记识别卡 防伪功能 保密性 随机图案 
真实感三维图形生成中混淆与反混淆技术被引量:2
《光电工程》1994年第2期15-19,共5页韩绍发 孙国良 
四川省应用基础研究专项经费资助
从采样理论出发,讨论了计算机生成真实感三维图形过程中,产生混淆现象的原因,以及进行反混淆的一般原理和方法,提出了针对机械零件图形的反混淆算法。该算法具有简单快速的特点,并能获得较好效果,适于微机上的反混淆处理。
关键词:计算机图解 三维显示 采样 反混淆 图形生成 
模拟退火法及其收敛性被引量:3
《光电工程》1993年第3期12-18,共7页陈小刚 林大键 孙国良 
本文介绍了模拟退火法的起源和发展,并着重就可以获得最低能量状态的退火方案进行了讨论,证明了一类随机矩阵的稳定分布都收敛于具有最低能态的分布。
关键词:退火 计算机模拟 优化设计 收敛 
菜单工具软件MENU TOOLS的设计与实现被引量:3
《计算机应用研究》1991年第2期31-34,共4页王道顺 孙国良 
本文介绍了IBM PC系列微机上使用的菜单工具软件MENU TOOLS的设计思想,实现软件功能的一系列方法。
关键词:菜单 工具软件 微机 设计 
基于DSP的实时目标跟踪器
《光电工程》1990年第6期21-30,共10页姜凌涛 叶逢时 孙国良 
本文介绍了一套基于TMS32020数字信号处理器的实时目标跟踪器的硬件结构,对形心跟踪算法和模板匹配算法的特点和性质进行了初步的讨论,介绍了用TMS32020汇编语言实现这两种算法的一些具体问题。
关键词:数字信号处理 实时 目标跟踪器 DSP 
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