部分相干因子σ及其在相移掩模（PSM）模拟软件中的应用  

The Partial Coherent Parameter σ and Its Applicationsin the Phase-Shift Mask Simulation Software

作　　者：阙珑 孙国良[1] 冯伯儒[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家实验室

出　　处：《光电工程》1995年第6期35-40,共6页Opto-Electronic Engineering

基　　金：国家自然科学基金;国家自然科学基金

摘　　要：从Ｈｏｐｋｉｎｓ公式出发，分析部分相干因子σ的物理意义。In the paper,we analyse the physical meaning of the partial coherent parameter σ based on the Hopkins theory and mainly discuss the applications of the partial coherent theory in the phase-shift mask (PSM) simulation software.

关 键 词：相移掩模 光刻 部分相干光 微细加工 模拟软件 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] TP311.52[自动化与计算机技术—计算机软件与理论]