用反应离子刻蚀技术制作二元光学元件  

Fabrication of Binary Optical Elements with Reactive Ion Etching Technology

作　　者：张锦[1] 杜春雷[1] 冯伯儒[1] 王永茹[1] 周礼书[1] 侯德胜[1] 郭勇邱 传凯 林大键[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室

出　　处：《光电工程》1997年第S1期42-46,共5页Opto-Electronic Engineering

基　　金：国家863高技术和中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室基金

摘　　要：介绍了利用反应离子刻蚀技术制作二元光学元件的原理和方法，给出了制作结果。The principle and method for making binary optical elements by means of reactive ion etching technology are introduced and the making results are given.

关 键 词：离子束光刻 离子腐蚀 二元光学 衍射光学元件 

分 类 号：TN405.98[电子电信—微电子学与固体电子学]