从光刻机市场变化看光刻技术的发展趋势  

作　　者：莫大康 

机构地区：[1]应用材料中国公司

出　　处：《中国集成电路》2004年第6期51-53,42,共4页China lntegrated Circuit

摘　　要：在摩尔定律的指引下，全球半导体工业在2001—2008年期间，仍能以年平均增长10％的速率进步，尽管比以前的17％慢，这也反映出半导体工业中使用的基础硅材料正逼近其极限。不管如何，光刻技术总是半导体工业的“领头羊”。

关 键 词：光刻 步进光刻机 电子束制版 电子束直接写入 

分 类 号：F416.63[经济管理—产业经济]