基准校正技术概述  

SURVEY ON CORRECTION TECHNIQUE FOR DATUM

作　　者：邓军[1] 

机构地区：[1]中科院光电技术研究所,成都610209

出　　处：《微细加工技术》1993年第2期17-22,共6页Microfabrication Technology

摘　　要：本文从最基本的角度出发,介绍了亚微米分步重复投影光刻机中的一项新的检测技术——基准校正技术。简要地说明了该项技术的重复性、必要性和最新发展趋势。A new detecting technique-correction technique for datum in submicron DSW is introduced from the basic point of view.It's importence, necessity and up-to-date development tendency are briefly explained.

关 键 词：光刻机 基准校正 DSW 半导体集成电路 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] TN453