邓军

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基准校正技术概述
《微细加工技术》1993年第2期17-22,共6页邓军 
本文从最基本的角度出发,介绍了亚微米分步重复投影光刻机中的一项新的检测技术——基准校正技术。简要地说明了该项技术的重复性、必要性和最新发展趋势。
关键词：光刻机 基准校正 DSW 半导体集成电路 
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