ADI公司发布创新的iCMOS 圃旃ひ  

出　　处：《电子产品与技术》2004年第11期79-79,共1页

摘　　要：ADI日前发布了一种创新的半导体制造工艺—iCMOS^TM(工业CMOS)，它将高电压半导体工艺与亚微米CMOS(互补金属氧化物半导体)和互补双极型工艺相结合，使诸如工企自动化和过程控制等高电压应用在性能、设计和节省成本方面达到了空前的水平。

关 键 词：CMOS ADI公司 半导体工艺 半导体制造工艺 双极型 互补金属氧化物半导体 亚微米 发布 节省 过程控制 

分 类 号：TN305[电子电信—物理电子学] TP212[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]