ASML公司的90nm及其更小特征尺寸的光学光刻技术  

出　　处：《电子工业专用设备》2003年第6期37-37,共1页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：2003年11月10日，ASML在浦东华美达大酒店(Ramada)四楼举办了一场光刻技术研讨会，并希望通过此次会议，使ASML及其技术合作伙伴在先进科技上将最新的一些成果和心得带给客户及业界，能够更好地促进与客户之间的技术交流。

关 键 词：客户 技术合作伙伴 浦东 酒店 科技 ASML公司 技术交流 特征尺寸 光学光刻 光刻技术 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] F407.63[经济管理—产业经济]