等离子体源离子注入技术  

作　　者：王钧石[1] 陈元儒[1] 黄楠[1] 

机构地区：[1]西南交通大学

出　　处：《材料导报》1994年第2期79-80,共2页Materials Reports

基　　金：国家"863"重点攻关项目(863-715-23-05)

摘　　要：介绍了等离子体源离子注入(PSII)的现状、特点、原理和应用效果。

关 键 词：等离子体源 离子注入 表面处理 

分 类 号：O53[理学—等离子体物理]