超强流氧离子注入机国内外现状及发展趋势  

作　　者：颜亨迪[1] 刘湘德[1] 

机构地区：[1]电子工业部第四十八研究所

出　　处：《电子工业专用设备》1994年第2期15-18,共4页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：本文概括介绍了超强流氧离子注入机的国内外现状及发展趋势，指出了国内在这一设备研制上的主要差距，对今后发展该设备提出自己的建议。

关 键 词：超强流 氧离子注入机 离子注入 硅 

分 类 号：TN304.05[电子电信—物理电子学]