等离子体源离子注入（I）──原理和技术  

作　　者：汤宝寅[1] 

机构地区：[1]哈尔滨工业大学

出　　处：《物理》1994年第1期41-45,共5页Physics

摘　　要：等离子体源离子注入（ＰＳＩＩ）是用于材料表面改性的一种新的、廉价的、非视线技术，它消除了一般束线离子注入（ＩＢＩＩ）所固有的视线限制，克服了保持剂量问题，使注入装置变得简单和价廉。介绍了ＰＳＩＩ过程、装置和基本物理与技术问题，也介绍了在美国威斯康辛大学和哈尔滨工业大学ＰＳＩＩ研究室中进行的ＰＳＩＩ技术研究及其工业应用的初步结果。

关 键 词：等离子体源 离子注入 表面改性 

分 类 号：TG174.44[金属学及工艺—金属表面处理]