热丝化学气相沉积金刚石薄膜空间场的数值分析  被引量:8

NUMERICAL ANALYSIS OF SPACIAL FIELD IN HOT FILAMENT CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DIAMOND FILM

在线阅读下载全文

作  者:李建国[1] 刘实[1] 李依依 胡东平[2] 季锡林[2] 梅军[2] 周德惠[2] 

机构地区:[1]中国科学院金属研究所,沈阳110016 [2]中国工程物理研究院结构力学研究所,绵阳621900

出  处:《金属学报》2005年第4期437-443,共7页Acta Metallurgica Sinica

基  金:中国工程物理研究院结构力学研究所创新基金资助项目04cxj-30

摘  要:根据热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石薄膜的几何特点和工艺参数,建立了该系统的二维温度场、速度场和密度场 的耦合模型.利用该模型对沉积大面积金刚石薄膜的空间场进行了模拟计算,研究了沉积参数对空间场的影响.结果表明,衬底处 的温度分布和质量流密度的计算值与实测值相吻合.只有气体进口速度对质量流密度的均匀性影响最大,其它沉积参数对衬底温度 的均匀性、质量流密度的均匀性影响不大.从热丝阵列的最低温度出发,优选出沉积100 mm×100 mm、高质量金刚石薄膜比 较适宜的热丝几何参数.Two-dimension coupled model of the temperature filed, velocity field and density field was developed according to the geometry and technology parameters in hot filament chemical vapor deposition (HFCVD) diamond film. The spacial field during large area diamond film deposition was simulated using this model to study the influence of deposited parameters. The calculated results about the temperature and the mass flow density on the substrate are consistent with experimented ones. The inlet gas velocity obviously affects the uniformity of the mass flow density, and the other deposited parameters have little influence on the distributions of the temperature and mass flow density. The optimal hot filament geometry parameters to deposit high quality diamond films with an area of 100 mm x 100 mm are gained on the basis of the minimum temperature along hot filament array.

关 键 词:热丝化学气相沉积 耦合模型 空间场 模拟计算 

分 类 号:TB383[一般工业技术—材料科学与工程]

 

参考文献:

正在载入数据...

 

二级参考文献:

正在载入数据...

 

耦合文献:

正在载入数据...

 

引证文献:

正在载入数据...

 

二级引证文献:

正在载入数据...

 

同被引文献:

正在载入数据...

 

相关期刊文献:

正在载入数据...

相关的主题
相关的作者对象
相关的机构对象