离子束增强沉积技术新进展  

THE DEVELOPMENT OF ION BEAM ENHANCED DEPOSITION TECHNOLOGY

作　　者：尤大纬[1] 李文治[2] 

机构地区：[1]中科院空间科学与应用研究中心,北京100080 [2]清华大学材料科学与工程系,北京100084

出　　处：《真空科学与技术》1994年第4期280-286,共7页Vacuum Science and Technology

摘　　要：介绍离子束增强沉积镀膜技术的国内外主要机型及工艺进展，特别是我们实验室离子束增强镀膜新工艺的进展。Here we have presented the recent development of ion beam enhanced deposition technology,especially in our laboratory. A brief review and comparison of the main equipments for IBED technology used domestically as well as internationally is also presented.

关 键 词：离子束注入 物理气相沉积 离子束增强沉积 

分 类 号：TN405.986[电子电信—微电子学与固体电子学]