电子束曝光机工件台X向静压气浮导轨的研制  

作　　者：张翠林[1] 徐丰仁[1] 傅小艺 李友勤 

机构地区：[1]清华大学精仪系微细工程研究所

出　　处：《微细加工技术》1989年第2期1-7,共7页Microfabrication Technology

摘　　要：为实现DB—5型电子束曝光机工件台高速度及高精度的要求,研制了x向闭式静压气浮导轨,该系统由双导轨及单导轨两部分组成。本文主要介绍静压气浮导轨系统的设计计算、性能试验。

关 键 词：电子束 曝光机 工件台 导轨 设计 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]