化学气相沉积技术的进展  

作　　者：张迎光[1] 白雪峰[2] 张洪林[1] 刘宁生[2] 

机构地区：[1]辽宁石油化工大学,抚顺113001 [2]黑龙江省石油化学研究院,哈尔滨150040

出　　处：《中国科技信息》2005年第12C期82-82,84,共2页China Science and Technology Information

摘　　要：介绍了化学气相沉积(CVD)技术的应用,还有化学气相沉积(CVD)技术的最新发展,包括等离子增强化学气相沉积、激光化学气相沉积、金属有机化合物化学气相沉积;同时介绍了化学气相沉积(CVD)和化学液相沉积(CLD)技术在改性沸石催化性能方面的应用和研究。

关 键 词：化学气相沉积技术 等离子增强化学气相沉积 激光化学气相沉积 金属有机化合物 化学液相沉积 催化性能 改性沸石 应用 

分 类 号：TQ03[化学工程]